Materialen & Chemicaliën

Fotolak

光刻胶 guāng kè jiāo
对UV辐射敏感的感光材料,用于光刻工艺中转移微细图形
🔗 UV-blootstelling 🔗 Monomeer 🔗 Foto-initiator 📖 Materialen & Chemicaliën 🇨🇳 中文版

📖 Definitie

📌 Kerndefinitie
Fotoresist — 对UV辐射敏感的感光材料,用于光刻工艺中转移微细图形

Fotoresist is een belangrijk concept in de UV-industrie. 对UV辐射敏感的感光材料,用于光刻工艺中转移微细图形 Het begrijpen van Fotoresist is essentieel voor een correcte UV-procesbeheersing, apparatuurselectie en kwaliteitsmanagement.

💡 Eenvoudige uitleg

In eenvoudige bewoordingen verwijst Fotoresist naar 对UV辐射敏感的感光材料,用于光刻工艺中转移微细图形...

🔤 Etymologie & Uitspraak

Chinese naam
光刻胶
pinyin: guāng kè jiāo
Engelse naam
Fotolak
pronunciation: ˈfoʊtoʊrɪˈzɪst

🏭 Industriële toepassingen

Fotoresist wordt veel toegepast in de volgende UV-industriële toepassingen:

🎯

Halfgeleiderproductie

Application of Photoresist in Semiconductor Manufacturing

🔧

PCB-productie

Application of Photoresist in PCB Manufacturing

📊

Precision Optics

Toepassing van Fotoresist in precisie-optica

⚙️

Micro/Nano Fabrication

Application of Photoresist in Micro/Nano Fabrication

📞 Vragen over Fotoresist?

Neem contact op met ons technisch team voor professionele antwoorden